光刻机，其实和照相差不多，最早的时候，是直接接触方式的，用紫外光源照射，就是把掩膜上的图案转移到硅片上，就相当于把电路在上面留下了印子，后续还需要刻蚀等等程序。

直接接触会导致硅片的污染和磨损，工艺精度不高，后来就出现了间接式，在掩膜和硅片之间增加一层间隙空气，避免了接触式光刻机的问题，但是掩膜和硅片，依旧是同样尺寸的。

随着技术的提升，硅片的制程越来越先进，掩膜已经刻不出来那么细了，这个时候，光刻机就需要加透镜，把一个大面积的掩膜图案，刻到一个小小的芯片上去，微米级的工艺，这种技术几乎是必须的。

一个掩膜只能造一个芯片，在硅圆上刻下一小块，而硅圆直径也是越来越大，人工操作投影机或者是硅片运动来转移到下一个空白的地方刻电路，已经太复杂了，就必须得自动对准，光刻，转移，再光刻，一切都是自动化的。

后世不管光刻机怎么发展，除了最先进的几纳米工艺需要的极紫外光刻机之外，其他的大部分光刻机，用的都是这个原理。

“工作台的行程160毫米X160毫米，可以加工四英寸到六英寸的芯片，光刻芯片的最大面积是10毫米X10毫米，实际有效分辨率可以达到1.25微米……”

“听起来，咱们这光刻机的技术很先进啊。”

“那是自然。”徐教授说道：“我们的光刻机，已经达到和西方同等水平了，国内那些工厂……”

“是他们瞎眼了，他们不要，我们要！我们订购五台，价格随你（本章未完，请翻页）

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